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光學玻璃基渦旋波片在制造和封裝過程中可能殘留以下污染物，超聲波清洗可高效去除：

1、拋光殘留物（如氧化鈰、二氧化硅顆粒）。

2、有機污染物（指紋、油脂、灰塵）。

3、金屬離子或無機鹽（來自加工環(huán)境或化學處理）。

4、臨時保護膜或光刻膠殘留（如用于微結(jié)構(gòu)制作的抗蝕劑）。

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機所具備的清洗優(yōu)勢等技術(shù)功能如下：

相比傳統(tǒng)清洗方法（如手動擦拭、噴淋清洗），威固特VGT-1409FH超聲波清洗機在光學玻璃基渦旋波片生產(chǎn)中具有以下優(yōu)勢：

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機推薦技術(shù)參數(shù)（為確保清洗效果并避免損傷）：

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機分步清洗流程：

步驟1：預清洗（可選）

目的：去除大顆粒松散污染物，減少超聲波負載。

方法：

用氮氣槍吹掃波片表面。

浸泡于去離子水中，手動搖晃10秒。

步驟2：超聲波主清洗

參數(shù)：

清洗液：按污染類型選擇。

功率：8W/L（如10L槽體=80W）。

時間：2分鐘。

操作：

將波片裝入支架，完全浸沒于清洗液（液面高出波片≥2cm）。

啟動超聲波，觀察清洗液流動是否均勻（避免死角）。

步驟3：漂洗

目的：去除清洗液殘留。

方法：

一級漂洗：超純水（電阻率≥18.2 MΩ·cm）中浸泡1分鐘，輕微搖晃。

二級漂洗：流動超純水沖洗30秒（流速1L/min）。

步驟4：干燥

氮氣吹干：

使用0.1μm過濾的氮氣，壓力≤0.2MPa。

從波片中心向外螺旋式吹掃，角度45°（避免液滴殘留）。